JPTD 磁控镀膜系列
作者：甘肃真空设备有限公司时间：2022-09-22点击：17次
※ 系列产品参数
型号项目 | JPTD-1000L | JPTD-1000LA | JPTD-1000LC |
| 极限真空度 Pa | 5.0×10-3（清洁、干燥、空载） | ||
| 恢复真空时间 Pa | 18（从大气～10-2Pa） | ||
| 基材 | PET、PVC、PE等 | ||
| 有效镀幅 mm | 500 | 650 | 800 |
| 最大卷径 mm | Φ300 | ||
| 镀膜速度 m/min | ITO靶0.5～1.5m/min 其它靶 5m/min(max) | ||
| 磁控靶数目 只 | 5 | 6 | 8 |
| 靶材 | 铟锡合金（黄铜、紫铜、镍、钛等选用） | ||
| 溅射压力 Pa | 1～0.1 | ||
| 溅射电压 V | 300～600（D.C） | ||
| 工作气体 | Ar、 O2纯度99.99% | ||
| 最大需用功率 KVA | 52 | 55 | 78 |
| 冷却水量 t/h | 5 （入口压力0.15～0.2MPa，进水温度25℃以下） | ||
| 占地面积 mm | 6850×5020×2600 | 7000×5020×2600 | 7250×5020×2600 |
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